| 离轴射频偏置磁控溅射 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所****年*至**月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 采购项目名称： | 离轴射频偏置磁控溅射 |
| 预算金额： | ***.******万元(人民币) |
| 采购品目： | A********其他电工、电子生产设备 |
| 采购需求概况： | 采购一台离轴射频偏置磁控溅射，用于*** nm及以下尺寸样品的金属、氧化物、氮化物薄膜材料的单层或多层沉积生长。溅射腔本底真空优于*E-* Pa；磁控溅射源共*个，包含*个离轴溅射源和*个共焦溅射源；样品尺寸兼容*~*英寸。 |
| 预计采购时间： | ****-** |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
